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鋼材金屬做金相試驗(yàn)是的金相制樣指南

金相分析在材料研究領(lǐng)域占有十分重要的地位,是研究材料內(nèi)部組織的主要手段之一。小編盡洪荒之力查遍資料整理匯總了金相制樣指南與大家分享。

Discotom切割機(jī).jpg

Discotom切割機(jī)


得到一個(gè)盡可能無(wú)變形的平表面才能迅速而容易地進(jìn)行下一步制樣,最合適的切割法是濕式砂輪片切割法,這種方法所造成的損傷與所用的時(shí)間相比是最小的。濕式砂輪片切割使用的砂輪片是由研磨料粘合劑合成的。工作時(shí),冷卻液沖刷砂輪片以避免摩擦熱對(duì)樣品造成的熱損傷。


砂輪片的選擇 


按照所需切割的材料不同,選擇不同組份的砂輪片,主要依材料的硬度和韌性來(lái)選擇。按照材料的性質(zhì)來(lái)正確選擇砂輪片是十分重要的。只有砂輪片合適,才能保證切割的樣品表面變形小、平整度好,以便快速地得到所需的制樣結(jié)果。


鑲嵌樣品

金相樣品鑲嵌(以下簡(jiǎn)稱(chēng)鑲樣),是指在試樣尺寸較小或者形狀不規(guī)則導(dǎo)致研磨拋光苦難而進(jìn)行的鑲嵌或夾持來(lái)使試樣拋磨方便,提高工作效率及實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性的工藝方法。鑲樣一般分為冷鑲和熱鑲


冷鑲


冷鑲示意圖


冷鑲應(yīng)用:對(duì)溫度及壓力極敏感的材料,以及微裂紋的試樣,應(yīng)采用冷鑲的方式,將不會(huì)引起試樣組織的變化。


冷鑲材料:一般包括環(huán)氧樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、聚脂樹(shù)脂


  • 環(huán)氧樹(shù)脂:收縮率低,固化時(shí)間長(zhǎng);邊緣保護(hù)好,用于真空浸漬,適用于多孔性材料;

  • 丙烯酸樹(shù)脂:黃色或白色,固化時(shí)間短,適用于大批量形狀不規(guī)則的試樣鑲樣;對(duì)有裂紋或孔隙的試樣有較好的滲透性;特別適用于印刷電路板封裝;

  • 聚酯樹(shù)脂:黃色、透明、固化時(shí)間較長(zhǎng);適用于大批量無(wú)孔隙的試樣制樣,適用期長(zhǎng);

CitoVac真空浸漬設(shè)備


真空浸漬:多孔材料(如陶瓷或熱噴涂層)需要進(jìn)行真空浸漬。樹(shù)脂可強(qiáng)化這些脆弱的材料,可以最大程度地減少制備缺陷(如拔出、裂紋或未打開(kāi)的孔隙)。只有環(huán)氧樹(shù)脂可用于真空浸漬,因?yàn)樗鼈兙哂械驼扯群偷驼羝麎禾匦浴?/strong>可將熒光染料與環(huán)氧樹(shù)脂混合使用,以便于在熒光燈下找出一切填充過(guò)的孔隙。


冷鑲試樣 


熱鑲

熱鑲示意圖


熱鑲應(yīng)用:適用于低溫及壓力不大的情況下不發(fā)生變形的樣品。


熱鑲材料:目前一般多采用塑料作為鑲嵌材料。鑲嵌材料有熱凝性塑料(如膠木粉)、熱塑性塑料(如聚氯乙烯)、冷凝性塑料(環(huán)氧樹(shù)脂加固化劑)醫(yī)用牙托粉加牙托水等。膠木粉不透明,有各種顏色,而且比較硬,試樣不易倒角,但抗強(qiáng)酸強(qiáng)堿的耐腐蝕性能比較差。聚氯乙烯為半透明或透明的,抗酸堿的耐腐蝕性能好,但較軟。


CitoPress鑲樣機(jī)

熱鑲試樣 


鑲樣缺陷及解決方法



機(jī)械制樣

研磨


粗磨


一般材料都用砂輪機(jī)粗磨。操作時(shí)應(yīng)利用砂輪側(cè)面,以保證試樣磨平。要注意接觸壓力不宜過(guò)大同時(shí)要不斷用水冷卻,防止溫度升高造成內(nèi)部的組織發(fā)生變化。粗磨完成后,試樣外邊緣應(yīng)倒角,以免在以后的工序過(guò)程中會(huì)將砂紙或拋光物拉裂,甚至還可能會(huì)被拋光物鉤住而被拋飛出外,造成事故。


鑲樣倒角


精磨


細(xì)磨的目的是消除粗磨遺留下來(lái)的深而粗的磨痕,為拋光做準(zhǔn)備。細(xì)磨本身包括多道操作,即在各號(hào)砂紙上從粗到細(xì)順序進(jìn)行。目前,主流的精磨方式為濕式機(jī)械精磨,細(xì)精磨時(shí)一般依次從W40號(hào)開(kāi)始,逐一更換細(xì)一號(hào)的砂紙推磨,一般鋼鐵試樣磨到W10號(hào)砂紙,軟材料如鋁、鎂等合金可磨到W5號(hào)砂紙。每換下一號(hào)細(xì)砂紙時(shí),應(yīng)將磨面方向應(yīng)旋轉(zhuǎn)90°以便觀察上次磨痕是否磨掉。 在細(xì)磨較軟的金相試樣時(shí),如鋁、鎂、銅等有色金屬是應(yīng)該在砂紙上涂一層潤(rùn)滑劑,可防止砂粒嵌入軟金屬材料內(nèi),同時(shí)減少表面撕損現(xiàn)象。


拋光

LaboSystem研磨和拋光設(shè)備


拋光的目的是除去金相試樣磨面上由細(xì)磨留下的磨痕,成為平整無(wú)疵的鏡面。拋光結(jié)果在很大程度上取決于前幾道工序的質(zhì)量,故拋光之前應(yīng)仔細(xì)檢查磨面磨痕是否為單一方向且均勻,否則應(yīng)重新磨光,以免白費(fèi)時(shí)間。


拋光通常在專(zhuān)用的金相樣品拋光機(jī)上灑以適量的拋光液后進(jìn)行,轉(zhuǎn)速一般在200~600r/min,粗拋時(shí)轉(zhuǎn)速較高,精拋或拋軟材料時(shí)轉(zhuǎn)速較低在拋光盤(pán)上蒙一層織物,粗拋時(shí)常用帆布、粗呢等,精拋時(shí)常用絨布、細(xì)呢金絲絨與絲綢等。


拋光耗材 


拋光注意事項(xiàng):


  • 拋光時(shí)將試樣的磨面應(yīng)均勻地、平正地壓在旋轉(zhuǎn)的拋光盤(pán)上。壓力不宜過(guò)大,并從邊緣到中心不斷地作徑向往復(fù)移動(dòng)。

  • 拋光過(guò)程中要不斷噴灑適量的拋光液。若拋光布上地光液太多,會(huì)使鋼中夾雜物及鑄鐵中的石墨脫落,拋光面質(zhì)量不佳;若拋光液太少,將使拋光面變得晦暗而有黑斑。

  • 后期應(yīng)使試樣在拋光盤(pán)上各方向轉(zhuǎn)動(dòng),以防止鋼中夾雜物產(chǎn)生拖尾現(xiàn)象。 

  • 盡量減少拋光面表層金屬變形的可能性,整個(gè)拋光時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng),磨痕全部消除,出現(xiàn)鏡面后,拋光即可停止。試樣用水沖洗或用酒精洗干凈后就可轉(zhuǎn)入浸濕或直接在顯微鏡下觀察。


研磨拋光常見(jiàn)缺陷及應(yīng)對(duì)措施


1、劃痕


劃痕即是樣品表面上的線性凹槽,是由研磨粒子造成的。


金剛砂拋光之后,殘存非常深的垂直刮痕。放大:200x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 確定在粗磨后,試樣座上所有樣品的表面都均勻地布滿同樣的 磨痕花樣;

  • 必要時(shí)重新進(jìn)行粗磨;

  • 每一道步聚后均應(yīng)仔細(xì)清潔樣品和試樣座,以去掉前一道工序中的大研磨粒子對(duì)磨/拋用具的干擾;

  • 如果在現(xiàn)行的拋光工序后仍有前面工序留下的磨痕,請(qǐng)先增加 25~50%的制樣時(shí)間。


2、褶皺


樣品較大區(qū)域發(fā)生的塑性變形稱(chēng)為褶皺,當(dāng)不恰當(dāng)?shù)厥褂醚心チ稀?rùn)滑劑或拋光布時(shí),或者它們的搭配不合適,都將使研磨料象鈍刀一樣作用在作品表面,推擠表面,致使出現(xiàn)皺褶。


易延展軟鋼上的褶皺。放大:15x,DIC


應(yīng)對(duì)措施:


  • 潤(rùn)滑劑:檢查潤(rùn)滑劑的用量。潤(rùn)滑劑量太少時(shí)常發(fā)生推擠,必要時(shí)應(yīng)加大潤(rùn)滑劑用量。

  • 拋光布:由于拋光布的高回復(fù)性,研磨料會(huì)被深深壓入拋光布的底部而無(wú)法起到研磨作用。請(qǐng)參照61頁(yè)上的表來(lái)更換回復(fù)性差的拋光布。

  • 研磨料:金剛石的顆粒尺寸可能太小,致使無(wú)法壓入樣品進(jìn)行研磨。請(qǐng)使用大顆粒研磨料。


3、偽色


偽色就是對(duì)樣品表面的非正常著色,主要的原因是由于接觸了外來(lái)物質(zhì)。


由于樹(shù)脂與樣品之間的間隙引起的試樣染色。放大:20x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 鑲樣時(shí)避免在樣品和樹(shù)脂間有留下縫隙

  • 各道制樣工序后立即清洗并干燥樣品。

  • 在氧化物拋光的最后10秒里,用涼水沖洗拋光布,使樣品和拋光布同時(shí)得到清洗,最終拋光后避免使用壓縮空氣干燥樣品,因?yàn)閴嚎s空氣含有油或水。

  • 保存樣品時(shí),不能將樣品置于空氣中,因?yàn)闈駳饪赡芙g樣品。應(yīng)該將樣品保存在干燥皿中。


4、變形


塑性變形(也可稱(chēng)為冷加工)可能導(dǎo)致在研磨、精研或拋光之后存在表面下缺陷。可在蝕刻之后首先看到殘余的塑性變形。


短變形線,限于單個(gè)顆粒。放大:100x DIC


應(yīng)對(duì)措施:


  • 變形是一種浸蝕后即刻顯現(xiàn)的假象(化學(xué)、物理或光浸蝕)。

  • 如果在明場(chǎng)下觀察未浸蝕樣品時(shí)仍可見(jiàn)到懷疑是變形線的形貌,請(qǐng)首先參看“劃痕”這一節(jié)看看如何改進(jìn)制樣方法。


5、邊緣磨圓


當(dāng)使用回復(fù)性高的拋光布時(shí),有時(shí)會(huì)同時(shí)研磨樣品的表面和側(cè)面,這種效應(yīng)稱(chēng)為邊緣磨圓。果樹(shù)脂的磨損速率大于樣品,則會(huì)出現(xiàn)這種現(xiàn)象。


由于樹(shù)脂與樣品之間的間隙,邊緣將出現(xiàn)倒角。不銹鋼。放大:500x


良好的邊緣保護(hù),不銹鋼。放大:500x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 磨制過(guò)程中要保護(hù)好需檢驗(yàn)的邊緣,不要因檢驗(yàn)樣品邊緣而對(duì)樣品邊緣過(guò)度磨制產(chǎn)生倒角,

  • 拋光時(shí)試樣需要保護(hù)的一邊朝后,不需保護(hù)的一邊在前,迎著拋光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的方向進(jìn)行拋光,拋光時(shí)盡可能接近盤(pán)心位置,拋光時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng)。


6、浮雕


由于不同相的磨損速率和硬度不同而導(dǎo)致不同的材料剝離速率不同,從而產(chǎn)生浮雕。


AlSi 中 B4C 纖維,纖維與基材之間的起伏。放大:200x


與上圖相同,但無(wú)起伏。放大:200x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 浮雕主要發(fā)生于拋光階段,研磨后的樣品質(zhì)量要高,給拋光提供好的基礎(chǔ)。

  • 拋光布對(duì)樣品的平整度有顯著影響,低回復(fù)性拋光布要比高回復(fù)性拋光布造成的浮雕效果輕。

  • 拋光布拋光期間應(yīng)保持一定的濕度,并且控制制樣時(shí)間,避免制樣時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。如果出現(xiàn)了浮雕現(xiàn)象必須要重新制樣。


7、脫落


研磨過(guò)程中,樣品表面處的粒子或晶粒被拽掉后留下的孔洞稱(chēng)為脫落。由于硬脆材料無(wú)法塑性變形,致使樣品表面的微小區(qū)域發(fā)生破碎而脫落或被拋光布拖拽下來(lái)。


夾雜物被拖拽出來(lái)。可以看見(jiàn)凸起夾雜物引起的刮痕。放大:500x, DIC


應(yīng)對(duì)措施:


  • 切割和鑲樣過(guò)程中,不要施加過(guò)大的應(yīng)力以免損傷樣品。

  • 粗磨或精磨時(shí),不能使用過(guò)大的壓力和粗大的研磨粒子。

  • 應(yīng)使用無(wú)絨毛拋光布,這種布不會(huì)將粒子從基體上“拽”出來(lái)。

  • 每道工序都必須去掉上道工序造成的損傷,并盡可能地減小本 道工序造成的損傷。

  • 每道工序后都檢查樣品,找出何時(shí)發(fā)生脫落,一旦出現(xiàn)脫落就必須重新進(jìn)行磨制。


8、開(kāi)裂


發(fā)生在脆性樣品和多相樣品中的斷裂稱(chēng)為開(kāi)裂。當(dāng)加工樣品的能量超過(guò)樣品所能吸收的能量時(shí),多余的能量就會(huì)促使開(kāi)裂。


等離子涂層與基板之間的裂縫。裂縫源于切割。放大:500x


真空下使用環(huán)氧樹(shù)脂鑲嵌的樣品。裂縫 使用熒光染料填充,從而證明該 裂縫在鑲樣之前已存在于材料中。放大:500x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 切割:必須選擇適當(dāng)?shù)那懈钶啠?yīng)使用較低的送進(jìn)速度,必要時(shí)采取線切割技術(shù),

  • 鑲樣:避免對(duì)脆性材料或樣品進(jìn)行熱壓鑲樣,優(yōu)先使用冷鑲嵌。

  • 磨樣:,粗磨時(shí)避免使用大的壓力。


9、虛假孔隙率


有些樣品本身即帶有孔隙,如鑄造金屬、噴涂層或者陶瓷等。因此,重要的是如何獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù),避免由于制樣錯(cuò)誤導(dǎo)致數(shù)據(jù)錯(cuò)誤。軟質(zhì)材料和硬質(zhì)材料的結(jié)果有所不同。


軟質(zhì)材料:

超級(jí)合金,3 μm拋光 5 分鐘。  放大:500x


上圖基礎(chǔ)上1 μm額外拋光 1 分鐘


上圖基礎(chǔ)上1 μm額外拋光2 分鐘,正確結(jié)果


硬質(zhì)材料:


精研之后的Cr2O3等離子涂層


6 μm 拋光3分鐘之后


1 μm額外拋光之后。正確結(jié)果


應(yīng)對(duì)措施:


  • 易延展的軟材料可輕易地變形。因此,孔洞可能被存在污跡的材料覆蓋。檢驗(yàn)可以顯示孔隙百分比過(guò)低。

  • 硬質(zhì)、脆性材料的表面在第一機(jī)械制備步驟中易于斷裂,因此相對(duì)于實(shí)際情況呈現(xiàn)的孔隙率越高。

  • 每?jī)煞昼娛褂蔑@微鏡檢查試樣一次,每次檢查相同區(qū)域,以確保是否存在改進(jìn)。


10、曳尾


當(dāng)樣品與拋光盤(pán)沿同一方向運(yùn)動(dòng)時(shí),曳尾常發(fā)生在析出相或孔洞的周?chē)F涞湫偷男螤钍蛊浔环Q(chēng)為“曳尾”。


曳尾。放大:200x,DIC


應(yīng)對(duì)措施:


  • 拋光期間,樣品和拋光盤(pán)使用相同的旋轉(zhuǎn)速度。

  • 減小拋光用力。

  • 為避免拖尾缺陷的產(chǎn)生制樣時(shí)保持拋光布濕潤(rùn),試樣要不停地移動(dòng),避免長(zhǎng)時(shí)間的拋光。


11、污染


來(lái)源于其他部分而不是樣品本身的雜物,并在機(jī)械研磨或拋光過(guò)程沉積在樣品表面,這種現(xiàn)象稱(chēng)之為污染。


由于 B4C 顆粒與鋁基質(zhì)之間存在輕微起伏,上一步驟的銅沉積樣品的表面。放大:200x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 這種試樣重新輕拋即可去除,如果檢查拋光態(tài)試樣,用酒精淋后進(jìn)行吹風(fēng)時(shí),用酒精棉花在試樣面上輕輕擦洗即可。

  • 為了避免出現(xiàn)污染,各道制樣工序后尤其是最后一道工序后要立即清洗并干燥樣品。

  • 當(dāng)懷疑某一種相或粒子可能不屬于真實(shí)組織時(shí),請(qǐng)一定要清潔或者更換拋光布,并且從精磨開(kāi)始重新制樣。


12、磨料壓入


游離的研磨料顆粒壓入樣品表面的現(xiàn)象。由于在金相顯微鏡下觀察嵌入的砂粒形態(tài)與鋼中非金屬夾雜物無(wú)法區(qū)分,會(huì)給缺陷分析造成誤判。


鋁,使用  3 μm 金剛砂研磨,使用低彈性的拋光布。各種金剛砂被鑲嵌到樣品中。放大:500x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 對(duì)于有裂紋、孔洞的樣品,控制制樣的力度,每道工序后要沖洗樣品。

  • 如果發(fā)現(xiàn)裂紋、孔洞內(nèi)有單個(gè)顆粒狀、顆粒尺寸較小并與基體分離的夾雜物,應(yīng)當(dāng)借助于掃描電鏡的能譜進(jìn)行分析以確定是鋼中夾雜物還是制樣時(shí)帶入的。


13、研磨軌跡


即研磨粒子在硬表面上無(wú)規(guī)運(yùn)動(dòng)而在樣品表面上留下的印痕。雖然樣品上沒(méi)有劃痕,但可見(jiàn)到粒子在表面上無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)留下的清晰痕跡。使用的磨/拋盤(pán)或拋光布不合適,或者施加的壓力不準(zhǔn)確,這些錯(cuò)誤合在一起易導(dǎo)致擦痕。


鋯合金上的研磨軌跡:由于磨料顆粒旋轉(zhuǎn)或滾動(dòng)引起。放大:200x


應(yīng)對(duì)措施:


  • 高彈性的拋光布。

  • 適量增加研磨/拋光的力度


附:METALOGRAM法制樣

金相制樣圖Metalogram


METALOGRAM 方法簡(jiǎn)介


Metalogram 基于十種金相制備方法。七種方法,A - G,涵蓋了所有材料。這些方法旨在生成最佳結(jié)果的樣品。此外,還表示出三種快速制樣方法,即 X、Y 和 Z,這三種方法適用于快速獲得合格結(jié)果。


使用方法:


  • 沿X軸找出硬度,

  • 依據(jù)材料的韌性向下或向上查,與硬度不同的是,韌性較難以確定其準(zhǔn)確數(shù)值,一般依照個(gè)人的經(jīng)驗(yàn)定出后,在Y軸上找出材料的位置。



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